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货号 | 描述 | 适用于(设备) | 溶剂 |
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074532 | Dionex EGC III KOH 氢氧化钾淋洗液发生罐 | 传统 RFIC-EG 系统(高达 3000 psi) | 25% 甲醇 |
088453 | Dionex EGC 500 K2CO3 碳酸钾淋洗液发生罐 | Dionex ICS-5000+、ICS-6000 HPIC 系统 | 无溶剂 |
074533 | Dionex EGC III NaOH 氢氧化钠淋洗液发生罐 | 传统 RFIC-EG 系统(高达 3000 psi) | 25% 甲醇 |
074534 | Dionex EGC III LiOH 氢氧化锂淋洗液发生罐 | 传统 RFIC-EG 系统(高达 3000 psi) | 25% 甲醇 |
074535 | Dionex EGC III MSA 淋洗液发生罐 | 传统 RFIC-EG 系统(高达 3000 psi) | 无溶剂 |
072076 | Dionex EGC-KOH 氢氧化钾淋洗液发生罐,毛细管型 | ICS-4000 毛细管 HPIC 系统和 Dionex ICS-5000+ 毛细管系统 | 25% 甲醇 |
072077 | Dionex EGC-MSA 甲磺酸淋洗液发生罐,毛细管型 | ICS-4000 毛细管 HPIC 系统和 Dionex ICS-5000+ 毛细管系统 | 无溶剂 |
075778 | Dionex EGC 500 KOH 氢氧化钾淋洗液发生罐 | Integrion、ICS-5000+、ICS-6000 HPIC 系统 | EGC 500 KOH:25% 甲醇,EGC 500 MSA:无有机溶剂 |
075779 | Dionex EGC 500 MSA 甲磺酸淋洗液发生罐 | Integrion、ICS-5000+、ICS-6000 HPIC 系统 | 无溶剂 |
302766 | Dionex EGC 400 KOH 氢氧化钾淋洗液发生罐 | Dionex ICS-6000 HPIC 标准孔/微孔或混合型系统采用双 EGC 模式 | 不建议使用溶剂 |
302767 | Dionex EGC 400 MSA 甲磺酸淋洗液发生罐 | Dionex ICS-6000 HPIC 标准孔/微孔或混合型系统采用双 EGC 模式 | 不建议使用溶剂 |
通过淋洗液发生技术实现可重现、可靠的色谱分离。Thermo Scientific™ Dionex™ EGC 淋洗液发生罐可一致、可重现地生成淋洗液,确保您的结果可靠。这些发生罐省去了手动制备淋洗液的工作,使您能够专注于科学。淋洗液的生成也免除了传统的手动 IC 淋洗液制备方法中对酸和碱的处理需求,从而节省了化学品储存和处置的成本。
Dionex 淋洗液发生罐如何改进 IC 分析:
产品特点: