我们的第二代 EVOS LED 光立方在整个视野内提供出色的照明均匀性，可提供出色的无缝拼接图像质量。同时，优化的跨通道光谱保真度通过极大程度地减少非预期渗漏，可显著提高数据质量。与原始设计一样，它们将冷凝光学器件和硬膜滤光片组合成一个卓越的光引擎，提供数字控制的荧光基团激发。这些 LED 光立方向后兼容较旧的 EVOS 和 Countess 系统，可与第一代光立方配合使用。与原始光立方一样，这些 LED 立方可由用户更改，并由仪器自动识别。EVOS 光立方 DAPI 2.0 非常适合与 BFP、DAPI、Hoechst、LysoTracker Blue、NucBlue Live 和其他荧光基团配合使用，最大激发波长和发射波长分别接近357和 447 nm。

EVOS 光立方 DAPI 2.0 可为您提供以下重要优势：
•在整个视野内均匀照明，可获得卓越的图像质量
• 优化的光谱兼容性，可极大程度地提高检测真实信号的能力，同时极大程度地减少渗漏，以获得尽可能高的数据质量
• 更短的光路，可实现对荧光信号的卓越检测
• 超过 50,000 h 的稳定照明强度有助于实验重现性

高效光引擎
我们的第二代光立方设计在原始设计的基础上有了很大改进。更大的孔径增加了照明均匀性，从而提供了出色的无缝拼接图像质量和一致性。此外，新的 LED 灯和滤光片组合极大程度地提高了对昏暗样品至关重要的信背比，从而提高了数据质量，无论 EVOS 和 Countess 系统的信号强度如何。通过将 LED 光立方尽可能靠近物镜转盘，可极大程度地减少光路中的光学元件数量。较短光路的高强度照明提高了荧光基团激发效率，从而可以更好地检测微弱荧光信号。

硬膜滤光片套件可实现更高的传输效率
与软膜滤光片相比，硬膜滤光片套件更昂贵，但其有更锐利的边缘和明显更高的传输效率，光传输效率通常高出 >25% 以上。LED 灯泡和滤光片经过优化，可极大程度地增强来自目标荧光基团的信号，同时极大程度地降低来自其他染料的信号（即渗漏），有助于您获得更明亮的荧光、更高的传输效率和检测微弱荧光信号的能力以及更好的信噪比。这些因素可提高图像和数据质量。

光强度可持续
汞弧灯会在操作最初100小时减少 50% 的光强度—另外，若需要使用汞照明对不同时段获得的图像进行定量比较，需要先进行复杂的校准操作。EVOS 立方可保持连续的光立方强度，从而提供日间和实验间一致的照明，并帮助您直接比较在不同日期采集的图像的定量结果。每个光立方都包含一组精确匹配的光学组件，来优化光束的位置、均一性和强度。这些数字控制光源可轻松调整光强度、曝光时间和摄像机增益，从而减少光毒性和光漂白。

减少购买和维护成本
EVOS 系统的 LED 灯泡预计可使用 >50,000 小时（∼17 年），而经典的汞灯泡使用寿命为300小时，金属卤化物灯泡的使用寿命为1,500小时。这意味着可以节省仪器总体维护成本。

查找完整的 EVOS 系列成像系统和配件 ›