先进的逻辑和存储器制造工艺越来越依赖于精确的结构和分析数据的快速周转，以便能够快速校准工具套件、诊断得率偏移并优化工艺得率。在 28 nm 以下的技术节点，特别是在实施非平面设备设计的情况下，传统的 SEM 或基于光学的分析和检查工具无法提供有用的数据。Thermo Scientific™ Metrios™ 透射电子显微镜 (TEM) 是首款致力于为半导体生产商提供快速精准测量、从而满足其晶片制造过程开发和控制需求的 TEM。